テフロンカプセルOリングは、耐薬品性、柔軟性、長寿命が要求される環境に理想的な、汎用性の高いシーリングソリューションです。化学処理、医薬品、航空宇宙、半導体製造などの産業において、静的および半動的用途に優れています。独自のカプセル化により、ゴムの弾性とテフロンの不活性特性が組み合わされ、侵食性の高い化学薬品、極端な温度、高純度流体の取り扱いに対する耐性があります。固体のテフロンOリングとは異なり、同様の耐薬品性を維持しながら、より優れた圧縮永久歪回復性を提供します。これらのシールは、コンタミネーションのリスクを最小限に抑えなければならない場所や、従来のエラストマーではすぐに劣化してしまう場所で特に重宝されます。
キーポイントの説明
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化学処理用途
- テフロンOリング シールテフロンOリング )は、腐食性の酸、塩基、および溶剤に対して卓越した耐性を提供します。
- 硫酸、塩素、苛性溶液のような腐食性の強い媒体が使用されるプロセスでも、完全性を維持します。
- 過酷な化学環境で膨潤や劣化を起こす可能性のある標準的なエラストマーよりも優れています。
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製薬および半導体製造
- 非汚染性で無菌処理に最適
- 頻繁な滅菌(オートクレーブ、化学消毒)に耐える
- パーティクルの発生を最小限に抑えなければならない高純度流体システムに不可欠
- バイオリアクター、ろ過システム、クリーンルーム機器に使用
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航空宇宙および極限環境
- 広い温度範囲(-60℃~200℃)で信頼性の高い性能を発揮
- 航空燃料、油圧作動油、酸化剤への耐性
- 真空用途に不可欠な低アウトガス性
- 燃料システム、推進部品、宇宙船に使用
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静的シールとセミダイナミックシールの比較
- 限られた動きの用途に最適(グランドシール、フランジガスケット)
- 低速の往復運動や回転運動にも対応可能
- 固形テフロンの方が優れた性能を発揮する高速ダイナミックシールには推奨されない
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代替材料を超える利点
- ゴムの圧縮性とテフロンの表面特性を併せ持つ
- 純粋なPTFEシールよりも優れた記憶/回復性
- 完全に機械加工されたテフロン部品よりもコスト効率が高い
- 標準的なエラストマーOリングに比べて摩擦を低減
カプセル化プロセスが、Oリングの性能限界にどのような影響を与えるか考えたことがありますか?薄いテフロンスキンは化学的保護を提供し、ゴムコアは適切なシール力を保証します。これらのハイブリッド・シールは、失敗が許されない産業において、重要なプロセスを静かに可能にします。
総括表
アプリケーション | 主な利点 |
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化学処理 | 耐腐食性の酸、塩基、溶剤 |
医薬品/半導体 | 非汚染性、滅菌に耐える |
航空宇宙 | 極端な温度下での性能、燃料/酸化剤への耐性 |
静的/半動的シーリング | ゴム圧縮性とテフロン表面特性の組み合わせ |
KINTEKの精密テフロンカプセルOリングは、最も過酷な環境でも信頼性を発揮するように設計されており、お客様のシーリングソリューションをアップグレードします。標準サイズから特殊用途向けのカスタム加工まで、当社の専門知識が最適なパフォーマンスをお約束します。 お問い合わせはこちら プロジェクトのご要望やサンプルのご請求についてご相談ください。